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ISSN: 2333-9721
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极紫外多层膜残余应力初步研究

, PP. 0-0

Keywords: 极紫外,多层膜,残余应力

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Abstract:

?针对极紫外多层膜在激光等离子体诊断、极紫外光刻等方面的应用,进行了mo/si多层膜残余应力的实验研究,讨论了多层膜残余应力的成因。实验结果表明:mo单层膜表现为张应力,si单层膜表现为压应力;通过传统方法制备的13.0nm处高反射率的40对mo/si多层膜会产生-500mpa左右的压应力,其压应力主要是由膜层之间的贯穿扩散引起的;通过改变膜层比率可以在一定程度上补偿因贯穿扩散产生的压应力,但是以牺牲多层膜反射率为代价。

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