激光干涉光刻法制作100nm掩模

？介绍了一种利用激光干涉光刻技术得到特征图形，并通过离子束刻蚀将图形转移到铬层上，从而获得掩模的方法。针对掩模透光率以及对干涉图形对比度可能产生影响的两个参数分别进行了数值仿真，从而证明此方法的可行性和参数的优化选择。自搭干涉光刻实验系统，用257nm的激光光源实现光刻，得到特征尺寸为100nm的图形，再经过离子束刻蚀，最终得到周期200nm、线宽100nm的掩模。