193nm氟化物增透膜的特性

？为了研制低损耗、高性能的193nm氟化物增透膜，研究了基底和不同氟化物材料组合对氟化物增透膜的影响。在熔石英基底上，将挡板法和预镀层技术相结合，采用热舟蒸发方式制备了不同氟化物材料组合增透膜，对增透膜的剩余反射率和光学损耗等光学特性，以及表面粗糙度和应力等特性进行了测量和比较。在分析比较和优化的基础上，设计制备的3层1/4波长规整膜系alf3/laf3增透膜在193nm的剩余反射率低于0.14%，单面镀膜增透膜的透射率为93.85%，增透膜表面均方根粗糙度为0.979nm,总的损耗约为6％。要得到高性能的193nm增透膜，应选用超级抛光基底。