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强激光与粒子束 2012
材料表面处理用强流电子回旋共振离子源, PP. 2911-2914 Keywords: 电子回旋共振离子源,微波窗,表面处理,引出系统 Abstract: ?介绍一台2.45ghz永磁强流电子回旋共振离子源,其外径160mm,高90mm,放电室直径70mm,高50mm。微波馈入采用介质耦合方式,微波窗由一块f50mm×10mm柱形bn和两块f30mm×10mm的柱形陶瓷构成。离子源工作在脉冲模式下,采用三电极引出系统,最高引出电压达到100kv,在微波输入功率300w、进气量0.4ml/min时,可引出峰值超过30ma的氮离子束,在距离离子源引出孔1200mm位置处的束流均匀区直径大于200mm。
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