脉冲激光气相沉积法制备的非晶ch薄膜特性分析

？采用脉冲激光气相沉积(pld)法，研究了氢气压强对非晶ch薄膜性能的影响。原子力显微镜图和白光干涉图显示,薄膜表面平整致密，随着氢气压强增大，粗糙度变大。拉曼光谱分析表明，氢气压强增加，g峰和d峰位置都在向高波数方向移动。傅里叶变换红外光谱分析显示，薄膜中存在sp3—ch2和sp2—ch等基团。最后，采用pld漂浮法在最优参数氢气压强为0.3pa下，成功制备了不同厚度（100~300nm）、满足一定力学强度、无明显宏观缺陷的自支撑ch薄膜。