磁控溅射制备ni/ti多层膜表面粗糙度

？采用磁控溅射方法制备了周期数分别为10，30，50和75的ni/ti多层膜，利用x射线掠入射反射测量了多层膜表面和界面的状态，并用原子力显微镜测量了多层膜的表面粗糙度，研究了不同周期数的ni/ti多层膜表面粗糙度的变化规律。结果表明：ni/ti多层膜表面粗糙度随着膜层数增加而增加，当ni/ti多层膜的周期数从10变化到75时，其表面粗糙度由0.80nm增大到1.69nm。实验数据拟合表明：ni/ti多层膜表面粗糙度与周期数成3次方关系；但在周期数较小时，粗糙度与周期数成线性关系。