用于光束匀滑的连续相位板近场均匀性

？为降低高功率激光系统中连续相位板(cpp)后续元件的强激光损伤风险，综合考虑入射光强调制、干涉及衍射作用等多种影响因素，建立了cpp近场计算分析模型，模拟和分析了这些因素对cpp后的近场均匀性的影响。理论分析结果表明：cpp后的光束近场均匀性主要受入射光调制、cpp表面剩余反射率和衍射传输距离的影响；当入射光束质量较差时,cpp后的近场均匀性主要由入射光束质量决定，cpp剩余反射率和衍射传输距离对近场均匀性影响相对较小；但当光束质量比较理想时，干涉和衍射作用会破坏cpp的近场均匀性，衍射传输距离影响尤为突出。