高光洁度玻璃基片的表面散射和体散射测量

？提出了一种利用总积分散射（tis）测量k9玻璃基片表面散射和体散射的实验方法。首先采用磁控溅射技术在基片表面沉积厚度为几十nm的金属ag薄膜，然后将基片的表面和体区分开考虑，通过tis测得了基片上下表面的均方根粗糙度，进而求得基片的总散射和表面散射，最后计算得到了体散射。分别利用tis和原子力显微镜（afm）测量了3个样品上表面所镀ag膜的均方根粗糙度，两种方法所得的均方根粗糙度的数值相差不明显，差值分别为0.08，0.11和0.09nm,表明tis和afm的测量结果相一致。利用该方法测得3块k9玻璃基片的总散射分别为6.06×10-4，5.84×10-4和6.48×10-4，表面散射介于1.25×10-4~1.56×10-4之间，由此计算得到的体散射分别为3.10×10-4，3.30×10-4和3.61×10-4。