神光-ⅲ主机激光装置片状放大器洁净控制进展

？针对神光-ⅲ主机激光装置片状放大器的洁净控制采取了一系列有效措施。除了设计上更有利于洁净控制外，机械结构件表面残留不挥发性有机污染物也达到了低于1mg/m2的水平。为了进一步提高放大器洁净度，进行了光照清洗。实验结果表明:神光-ⅲ主机装置的洁净水平与美国国家点火装置接近，光照清洗时内部气溶胶等级维持在5000~10000之间，且绝大部分表面有机残留物在最初几发光照清洗中已被释放,从而得到一个干净的放大器腔体，减少了放大器运行时光学元件受污染和损伤的几率。