计算机控制光学表面成形中大规模驻留时间求解

？采用基于稀疏矩阵的大规模非负最小二乘法，对大口径、微浮雕结构光学元件加工中的驻留时间进行了分析与求解，并对该算法开展了正则化研究。仿真结果表明:与传统非负最小二乘法相比，基于稀疏矩阵的大规模非负最小二乘法精度高、效率快。采用该算法仿真加工平均振幅为1.1776倍波长的大口径、微浮雕结构光学元件，误差面形均方根收敛至0.067倍波长。