刻槽绝缘子真空表面闪络光学特性

？利用超高速相机hsfc-pro对绝缘子真空表面闪络光学特性进行了研究，重点分析了平板和刻槽结构圆盘形介质样品在指状电极下闪络通道的差异以及刻槽结构对材料绝缘强度的提升。实验结果表明：槽纹的引入改变了闪络通道的形成位置，平板结构介质样品的表面闪络一般是沿两电极中心连线发展，而刻槽结构介质样品的表面闪络则是沿介质边缘发展。这导致后者的闪络时延至少是前者的π/2倍，证明了刻槽结构可以在不增加器件尺寸的前提下有效提高介质材料的绝缘强度。