电子碰撞引起的铜元素k壳层电离截面的测量与修正

？在电子碰撞的情形下，通过对铜靶的特征x射线测量，从而推算出它的k壳层电离截面。在实验中采用了薄靶厚衬底新方法。通过电子输运计算，由厚衬底产生的反射电子对计数的影响得以修正。用蒙特卡罗技术对质量厚度为23mg∕cm2的铜靶的多次散射影响作了修正。