离子束流后处理对类金刚石薄膜激光损伤特性的影响

？类金刚石薄膜激光损伤阈值低，已经严重制约其在红外激光系统中的应用。基于非平衡磁控溅射技术，在硅基底上沉积类金刚石薄膜；采用离子束流后处理技术，用正交实验法确定影响处理效果的主要因素，对已沉积完成的dlc薄膜进行离子束轰击；在不同处理工艺下，观测薄膜样品的光学常数及拉曼光谱，最后进行了激光损伤测试。从测试结果可知，离子束流后处理参数：离子能量1000ev、放电电流30~40ma、轰击时间8min时，透射率由原来的60.65%提高到了65.98%；消光系数在900nm后明显降低，dlc薄膜的激光损伤阈值从0.69j/cm2提高到1.01j/cm2。