naf薄膜的脉冲激光沉积法制备与结构研究

？采用脉冲激光沉积(pld)方法在si(100)衬底上制备了naf薄膜。在激光重复频率2hz，能量密度3j/cm2，本底真空度5×10-5pa的条件下，研究衬底温度对薄膜沉积速率及结构的影响。台阶仪分析表明：薄膜的沉积速率随衬底温度增加呈指数函数增加，算出naf薄膜的反应激活能为48.67kj/mol。原子力显微镜分析表明：薄膜致密而光滑，均方根粗糙度为0.553nm。扫描电镜截面微观形貌分析表明：薄膜呈现柱状结构。x射线衍射分析表明：naf薄膜为面心立方晶体结构，并具有显著的择优取向；当衬底温度约为400℃时，平均晶粒尺寸最大(129.6nm)，晶格微应变最小(0.225%)。