空心阴极辉光放电包覆铜纳米粉末

？简要叙述了自悬浮定向流方法制备铜纳米粉末的原理和包覆层薄膜的生长机理，采用空心阴极辉光放电对铜纳米粉末进行有机包覆，实验中ch4和h2的流量分别为6ml/min和12ml/min，工作电压为450v，衬底与空心阴极的底端距离为2cm，背景真空和工作气压分别为6pa和100pa，沉积速率为7.5nm/min。用透射电镜(tem)对铜纳米粉末进行了观察和分析，结果表明：铜纳米粉末呈球状，其粒径分布在10～100nm之间,平均粒径大小为50nm；其包覆层的厚度大约为15nm，而且该厚度可以通过调节空心阴极辉光放电的参数来控制。