观察单晶缺陷的x射线反射形貌技术

？晶体缺陷对晶体的许多性能有重要影响，因此研究单晶缺陷的数量、分布、性质及其与晶体性能的关系，对有目的地改进晶体质量有较大的意义。在观测晶体缺陷的方法中较常用的是扫描透射形貌术［１］，然而反射形貌术装置简单，摄照时间较短，有许多优点。特别是有两种情况需要用到反射形貌术其一是研究半导体外延层和分光晶体表面层的晶体缺陷。在这些晶体中，表面层起重要作用。由于反射法ｘ射线穿透深度较小，一般为几微米，?...