新实验技术在材料研究中的应用讲座第十六讲半导体晶体缺陷显微镜研究中的若干方法

？一、引言用显微镜研究晶体缺陷的发展可分为两个方面其一是采用各种专用显微镜［１］，例如，根据泽尼克（ｚｅｒｎｉｋｅ）原理［２］制造的位相衬度显微镜（它能把物体产生的位相衬度转换成可见的强度衬度），和根据诺玛斯基（ｎｏｍａｒｓｋｉ）原理制造的微分干涉衬度显微镜［３］等．其二是在样品的制备和处理方面主要是寻找优秀的腐蚀剂．每种晶体都有一系列的腐蚀剂［４］，而且还在不断出现新型的腐蚀剂．用于半导体?...