自组生长的硅纳米管的稳定性研究

？文章作者的研究小组在世界上首次合成自组生长的硅纳米管（sints）后，对它的稳定性研究又获得进展.采用5wt%的hf酸对自组生长的硅纳米管的稳定性进行了研究，研究表明hf酸可以去除硅纳米管的氧化物外层，只剩下晶体硅纳米管，说明所得到的硅纳米管是一种稳定结构，因而使其应用研究开发成为可能.研究表明，硅纳米管的稳定性与其生长形成过程密切相关.