不同浓度地塞米松对小鼠腭胚突间充质细胞作用规律的研究

目的研究细胞水平地塞米松（Dex）致腭裂畸形的生物学机制，筛选出影响腭胚突间充质（EPM）细胞生长的地塞米松最适浓度。方法腭胚突间充质细胞进行原代培养，实验组细胞分别以1×10-9、1×10-8、1×10-7和1×10-6mol·L-1地塞米松加以干预，MTT比色法检测各组细胞的增殖率，碘化丙啶（PI）染色观察各组细胞的凋亡情况。结果在血清质量分数为10%条件下，随着Dex浓度的增加，细胞增殖率降低。第3天达到了地塞米松药物作用的最高峰。Dex浓度为1×10－6mol·L-1组与对照组相比，各时段的P值均小于0.01。结论地塞米松在加药后第3天药物作用最显著，之后随着药物的代谢，作用减弱；浓度1×10-6mol·L-1的地塞米松，既有一定程度的抑制EPM细胞生长的作用，又不会导致大量的细胞死亡。其可作为在细胞水平研究地塞米松致畸的生物学机制的最适浓度。