纯钛镀制TiSiN薄膜后与光固化冠桥树脂结合强度的研究

目的在纯钛表面磁控溅射镀制不同Si量的TiSiN膜后，比较纯钛与光固化冠桥树脂Solidex的结合强度，并对其界面进行分析。方法制作3组纯钛试件，1组表面不作处理，另2组分别在不同硅质量分数（9%和19%）下应用磁控溅射设备涂层试样表面后烤塑，采用AGS万能材料试验机测试纯钛与Solidex的剪切结合强度，并应用电子探针显微分析仪和扫描电镜观察镀膜层-树脂界面的表面形貌和分析成分。结果镀膜组结合强度优于未镀膜组（P<0.05），镀膜组中提高的Si量增加了结合强度，镀膜组中形成致密非晶态TiN、SiN。结论纯钛表面经磁控溅射镀制不同Si量的TiSiN膜后烤塑可以增加界面结合强度。镀膜组中形成的致密非晶态TiN、SiN填补了金属基底与Solidex烤塑专用树脂可能存在的空隙，有助于阻止金属离子渗出。