大面积头罩上类金刚石薄膜均匀性研究

根据军用光学仪器对红外窗口薄膜厚度均匀性的特殊要求，采用Femm42软件对射频等离子体化学气相沉积系统中真空室内的电场进行模拟分析，通过改变DOME的高度，并加入一金属圆环，解决了头罩边缘脱膜的问题。并利用田口实验方法指导实验，以减少实验次数，尽快找出影响薄膜性能的主次条件，同时可以分析各工艺参数对结果的影响趋势，最终确定最佳的工艺参数，在大面积头罩上成功镀制了厚度均匀性小于3%，且能承受恶劣环境测试的类金刚石薄膜。