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ISSN: 2333-9721
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核技术  2015 

用正电子湮没谱学技术表征一种有机-无机杂化膜

DOI: 10.11889/j.0253-3219.2015.hjs.38.030202, PP. 30202-30202

Keywords: 正电子湮没,自由体积,杂化膜,金属框架材料填充聚二甲基硅氧烷

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Abstract:

应用正电子湮没寿命谱(Positronannihilationlifetimespectroscopy,PALS)和正电子湮没符合多普勒展宽能谱(CoincidenceDopplerbroadeningenergyspectroscopy,CDBES)等正电子湮没谱学技术能从微观尺度上对聚合物-金属有机骨架材料杂化膜的微观结构进行表征。结果表明,随着金属有机骨架(Metal-OrganicFrameworks,MOFs)添加量的增大,杂化膜中较小的和较大的自由体积的尺寸都减小了;杂化膜的正电子湮没符合多普勒展宽能谱显示,MIL-101(MaterialInstituteLavoisier-101)亚纳米粒子的加入使得正电子在聚二甲基硅氧烷(Poly(dimethylsiloxane),PDMS)氧原子上的偏向湮没效应减弱,部分正电子与来自MIL-101亚纳米粒子中金属原子的电子发生湮没,表明MOFs加入改变了聚合物基体自由体积周围的化学环境。

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