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真空电弧镀膜设备A1000采用电弧放电直接蒸发镀膜材料制成的阴极靶,与同类型镀膜设备一样有如下特点a.金属阴极蒸发源不熔化;b.由磁场控制电弧放电,可细化膜层微粒;c.金属离化率高;d.一弧多用既是蒸发源,又是工件加热源,而且也是工件轰击净化和离化源;e.设备结构简单匡。
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