掺钛GZO 透明半导体薄膜的光学性质研究

以钛掺杂氧化锌镓(GZO) 陶瓷靶作为溅射源材料，采用射频磁控溅射技术在玻璃基片上制备了掺钛GZO(GZO:Ti) 透明半导体薄膜，利用光谱拟合方法计算了GZO:Ti 薄膜的折射度、消光系数和厚度等光学参数，研究了氩气压强对GZO:Ti 薄膜光学性质的影响． 结果表明:拟合光谱曲线与实验测量光谱曲线一致，薄膜的光学性质与氩气压强密切相关，GZO:Ti 薄膜折射率随波长增大而逐渐减小，表现出正常的色散性质．另外还采用包络法计算了GZO:Ti 薄膜的折射率和厚度，两种方法所获得的结果是基本相符的