热处理对尼龙1010结构影响研究
, PP. 1-5
Keywords: 尼龙１０１０,热处理,ＷＡＸＤ,ＳＡＸＳ
Abstract:
采用ＷＡＸＤ,ＳＡＸＳ方法研究了热处理对尼龙１０１０聚集态结构的影响．结果表明,在温度为１７５℃左右对样品进行退火处理可获得较完善的结晶．利用Ｗｃ．ｘ~Ｔ关系曲线外推法得到尼龙１０１０样品的Ｔｇ大约为５８℃．根据一维电子密度相关函数法求得了系列样品在所研究条件下的结晶片层厚,过渡层厚,长周期和结晶非晶相间的密度差．得到了不同退火条件尼龙１０１０样品的结晶相密度ρｃ．
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