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, PP. 711-714
Keywords: 铑配合物,正方平面,分子内取代
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合成了一种新的含有S、O未配位原子的高分子顺二羰基铑配合物,用IR和XPS数据研究了其分子内羰基取代反应,结果表明在遇热且无CO保护下S、O与铑形成的弱的S→Rh、O→Rh键可取代强的Rh→Cπ键,形成稳定的四配位结构,从而保护了铑不因末端羰基脱落而分解,提高了它的稳定性;其分子内取代反应是可逆的,在CO气氛下该结构又能够回复到二配位结构.
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