活性端基聚苯乙烯表面修饰膜的制备与摩擦学性能
, PP. 608-612
Keywords: 自组装聚合物膜,聚苯乙烯,链转移反应,摩擦学
Abstract:
以巯丙基三甲氧基硅烷为链转移剂,利用自由基聚合反应合成了三甲氧基硅烷封端的聚苯乙烯,研究了其在单晶硅基底上的自组装行为,并用红外、X射线光电子能谱、原子力显微等对膜进行了表征.研究发现,聚合物的浓度大于1mg/mL时才能形成较完整的聚合物膜,均方根粗糙度低于1nm,自组装过程在90℃时1h内即可完成.与空白基底相比,自组装聚苯乙烯膜具有良好的减摩抗磨性能,稳定摩擦系数为0.12.
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