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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用：99美元
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恩诺沙星与甲基丙烯酸分子印迹作用的理论研究
DOI: 10.3724/SP.J.1105.2013.13117, PP. 1525-1530
Keywords: 恩诺沙星,甲基丙烯酸,分子印迹,印迹比例,计算模拟,吸附性能
Abstract:
以恩诺沙星（ENRO）为模板分子，甲基丙烯酸（MAA）为功能单体，通过密度泛函方法（DFT）模拟模板分子ENRO与功能单体MAA自组装分子印迹聚合物体系的构型，研究模板与单体在其不同印迹比例时形成的稳定复合物的成键情况及反应的结合能，比较ENRO与MAA不同印迹比例时分子印迹相互作用的强弱及其作用原理，探讨ENRO与MAA合成MIPs的最佳印迹比例.计算结果显示，模板分子ENRO与功能单体MAA的印迹比例为14时，制备的复合物结合能最低，结构最稳定.同时采用不同印迹比例合成恩诺沙星分子印迹聚合物（ENRO-MIPs）并测定各聚合物的吸附性，结果印迹比例为14时制备的聚合物的吸附量远大于其他印迹比例聚合物的吸附量.研究表明，实验结果与计算结果具有一致性.因此，理论化学计算模拟对分子印迹聚合物合成时印迹比例的选择具有很好的指导作用.
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