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高分子学报 1990
己内酰胺与环硅氧烷阴离子开环共聚合的研究, PP. 193-198 Abstract: 采用己内酰胺CL和八甲基环四硅氧烷D4两种环单体于阴离子催化体系中直接共聚制备了有机硅共聚尼龙6.1H-NMR、IR谱表征了共聚产物。在D4CL为15wt%时,有76.3—83.5%的环硅氧烷进入共聚链。扫描电子显微镜图表明两种聚合物组分呈微观相分离状态。性能测试表明,共聚产物抗张强度略有下降,而抗冲击强度则有增高趋势;在适量有机硅配比时,吸水率减低,摩擦系数则显著下降。
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