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ISSN: 2333-9721
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化学学报  1994 

酞菁和酞菁铜的三阶非线性光学性质

, PP. 539-544

Keywords: 光学性质,量子化学,染料,电子结构,微扰论,非线性光学,微分重叠间忽略近似,三阶导数,酞菁,P,酞菁

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Abstract:

用INDO/SDCI方法研究了酞菁和酞菁铜的电子结构,紫外-可见光谱,三阶非线性光学系数及其色散效应,发现酞菁铜中Cu^2+对γ的贡献很小,故酞菁与酞菁铜的γ几乎相等,我们的计算结果对此进行了合理的解释。

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