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ISSN: 2333-9721
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化学学报  1987 

邻菲啉-H2O2-CTMAB-Cu(II)化学发光体系的研究及其应用

, PP. 139-144

Keywords: 反应机理,水质分析,,铜离子,四元系,过氧化氢,二氮杂菲,单纯形算法,化学发光反应,氢氧化钾

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Abstract:

本文用改进的单纯形优化法研究了邻菲啉-H2O2-CTMAB-Cu(II)化学发光体系的最佳反应条件,较为祥细地研究了该化学发光反应的机理,较为合理地解释了表面活性剂在该体系中的作用.同时选择适当的掩蔽剂,大大提高了反应的选择性.据此拟定了新的化学发光测定痕量铜的方法,经试用于天然水的分析获得较为满意的结果.本法的检测限达0.09ppb,水样测试的精密度良好,回收率91.4-108.0%,与石墨炉原子吸收法测定的结果甚为一致.

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