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化学学报 1991
反相流动注射化学发光分析ABEI-H2O2-Co(II)化学发光体系的研究及其应用, PP. 906-911 Keywords: 钴,反应机理,计算机模拟,苯,P,三元络合物,过氧化氢,化学发光分析,流动注射分析,酰肼,P Abstract: 本文用MSM数学原理和计算机模拟优化过程研究了ABEI-H2O2-Co(II)化学发光体系的最佳反应条件。用自行设计组装的流动注射化学发光仪,对反应要理进行了初步探讨。同时采用巯基棉柱预先分离干扰离子的方法,从而提高了反应的选择性,拟定了水样中痕量钴的新的化学发光测定方法,并首次提出把反相流动注射分析和化学发光分析结合起来,可以发挥两者的优点,提高检测钴的灵敏度,其检测下限达1.0×10^-^1^1g·mL^=^1,水样测试的精密度良好,回收率98-102%,分析速度100样·h^-^1。
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