邻香草醛分子印迹聚合物膜的制备及其透过选择性质的研究
, PP. 479-483
Keywords: 分子印迹技术,分子印迹膜,膜渗透,邻香草醛
Abstract:
采用紫外光引发原位聚合的方法制备了具有支撑膜的邻香草醛分子印迹聚合物膜.紫外光度法测定了模板分子和功能单体之间的结合常数和化学计量比(n＝2).用傅立叶红外光谱和扫描电镜分别测定了膜的结构和表面形貌;膜渗透实验结果表明在干扰物存在时印迹膜对模板分子表现出良好的选择透过性能.研究了分子印迹聚合物膜透过的机理、并为分子印迹技术应用于传感器领域增加了理论和实验方法.
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