添加剂3-巯基-1-丙烷磺酸钠对铜电沉积影响的研究

采用循环伏安(CV)、线性电位扫描(LSV)、计时安培(CA)和交流阻抗(ACimpedance)电化学方法结合扫描电镜(SEM)研究了不同浓度的3-巯基-1-丙烷磺酸钠(MPS)对CuSO4-H2SO4体系中铜在玻碳电极(GCE)上的电沉积过程的影响.CV,LSV和ACimpedance实验结果一致表明MPS阻化铜的电沉积,并且随着MPS浓度的增加,其阻化作用增强.但是MPS对Cu的电结晶过程表现为促进作用,CA与SEM研究结果一致表明,MPS不改变Cu的电结晶成核机理,仍然按瞬时成核和三维生长方式进行,并且成核数目随着MPS浓度的增大而增加.