全部 标题 作者
关键词 摘要

OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用:99美元

查看量下载量

相关文章

更多...
化学学报  2013 

基于单壁碳纳米管的功能分子电子器件研究

DOI: 10.6023/A13010024, PP. 478-484

Keywords: 单壁碳纳米管,单分子器件,纳米刻蚀法,表面化学修饰

Full-Text   Cite this paper   Add to My Lib

Abstract:

单壁碳纳米管具有完美的一维纳米结构、良好的导电性和电子弹道输运特性,被认为是新一代电子学器件的重要基础材料.作者介绍了两种构筑基于单壁碳纳米管的功能化场效应晶体管的策略,使用纳米刻蚀法可以制备稳定的功能化单分子器件,使用表面化学修饰法则提供了发展新型纳米传感器件的简易途径.针对分子与电极间的非欧姆接触问题,作者着重介绍了制备羧基功能化单壁碳纳米管点电极的普适性方法,并将导电分子通过酰胺键共价嵌入碳纳米管电极之间,从而制备稳定的单分子电子器件.这一体系为发展无需标记、高选择性的快速单分子检测方法提供了机会,在实际的工业应用及基础科学研究中都具有广阔的应用前景.

References

[1]  Heath, J. R.; Ratner, M. A. Phys. Today 2003, 56, 43.
[2]  Nitzan, A.; Ratner, M. A. Science 2003, 300, 1384.
[3]  Xu, B.; Tao, N. J. Science 2003, 301, 1221.
[4]  Venkataraman, L.; Klare, J. E.; Nuckolls, C.; Hybertsen, M. S.; Steigerwald, M. L. Nature 2006, 442, 904.
[5]  Guo, X.; Small, J. P.; Klare, J. E.; Wang, Y.; Purewal, M. S.; Tam, I. W.; Hong, B. H.; Caldwell, R.; Huang, L.; O’Brien, S.; Yan, J.; Breslow, R.; Wind, S. J.; Hone, J.; Kim, P.; Nuckolls, C. Science 2006, 311, 356.
[6]  Guo, X.; Myers, M.; Xiao, S.; Lefenfeld, M.; Steiner, R.; Tulevski, G. S.; Tang, J.; Baumert, J.; Leibfarth, F.; Yardley, J. T.; Steigerward, M. L.; Kim, P.; Nuckolls, C. Proc. Natl. Acad. Sci. U. S. A. 2006, 103, 11452.
[7]  Guo, X.; Xiao, S.; Myers, M.; Miao, Q.; Steigerward, M. L.; Nuckolls, C. Proc. Natl. Acad. Sci. U. S. A. 2009, 106, 691.
[8]  Whalley, A. C.; Steigerwald, M. L.; Guo, X.; Nuckolls, C. J. Am Chem. Soc. 2007, 129, 12590.
[9]  Guo, X.; Whalley, A.; Klare, J. E.; Huang, L.; O’Brien, S.; Steigerward, M. L.; Nuckolls, C. Nano Lett. 2007, 7, 1119.
[10]  Guo, X.; Gorodersky, A. A.; Hone, J.; Barton, J. K.; Nuckolls, C. Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 163.
[11]  Liu, S.; Zhang, X.; Luo, W.; Wang, Z.; Guo, X.; Steigerwald, M. L.; Fang, X. Angew. Chem., Int. Ed. 2011, 50, 2496.
[12]  Aldaye, F. A.; Palmer, A. L.; Sleiman, H. F. Science 2008, 321, 1795.
[13]  Tans, S. J.; Verschueren, A. R. M.; Dekker, C. Nature 1998, 393, 49.
[14]  Zhao, Y.; Stoddart, J. F. Acc. Chem. Res. 2009, 42, 1161.
[15]  Guldi, D. M.; Rahman, G. M. A.; Zerbetto, F.; Prato, M. Acc. Chem. Res. 2005, 38, 871.
[16]  Guo, X.; Huang, L.; O’Brien, S.; Kim, P.; Nuckolls, C. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 15045.
[17]  Simmons, J. M.; In, I.; Campbell, V. E.; Mark, T. J.; Léonard, F.; Gopalan, P.; Eriksson, M. A. Phys. Rev. Lett. 2007, 98, 086802.
[18]  Hecht, D. S.; Ramirez, R. J. A.; Briman, M.; Artukovic, E.; Chichak, K. S.; Stoddart, J. F.; Grüner, G. Nano Lett. 2006, 6, 2031.
[19]  Zang, L.; Che, Y.; Moore, J. S. Acc. Chem. Res. 2008, 41, 1596.
[20]  Feldman, A. K.; Steigerwald, M. L.; Guo, X.; Nuckolls, C. Acc. Chem. Res. 2008, 41, 1731.
[21]  Kauffman, D. R.; Star, A. Angew. Chem., Int. Ed. 2008, 47, 6550.
[22]  Patolsky, F.; Zheng, G.; Lieber, C. M. Nat. Protoc. 2006, 1, 1711.
[23]  Stern, E.; Klemic, J. F.; Routenberg, D. A.; Wyrembak, P. N.; Turner-Evans, D. B.; Hamilton, A. D.; LaVan, D. A.; Fahmy, T. M.; Reed, M. A. Nature 2007, 445, 519.
[24]  Wang, Z. L. Adv. Mater. 2007, 19, 889.
[25]  Iijima, S. Nature 1991, 354, 56.
[26]  Ouyang, M.; Huang, J.; Lieber, C. M. Acc. Chem. Res. 2002, 35, 1018.
[27]  Dai, H. Acc. Chem. Res. 2002, 35, 1035.
[28]  Avouris, P. Acc. Chem. Res. 2002, 35, 1026.
[29]  Tour, J. M. Acc. Chem. Res. 2000, 33, 791.
[30]  Endo, M.; Sugiyama, H. ChemBioChem 2009, 10, 2420.
[31]  Clever, G. H.; Shionoya, M. Coord. Chem. Rev. 2010, 254, 2391.
[32]  Takezawa, Y.; Shionoya, M. Acc. Chem. Res. 2012, 45, 2066.
[33]  Yang, H.; Metera, K. L.; Sleiman, H. F. Coord. Chem. Rev. 2010, 254, 2403.
[34]  Liu, S.; Clever, G. H.; Takezawa, Y.; Kaneko, M.; Tanaka, K.; Guo, X.; Shionoya, M. Angew. Chem., Int. Ed. 2011, 50, 8886.
[35]  Martel, R.; Schmidt, T.; Shea, H. R.; Hertel, T.; Avouris, P. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 2447.
[36]  Eder, D. Chem. Rev. 2010, 110, 1348.
[37]  Hu, L.; Hecht, D. S.; Grüner, G. Chem. Rev. 2010, 110, 5790.
[38]  Star, A.; Joshi, V.; Skarupo, S.; Thomas, D.; Gabriel, J.-C. P. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 21014.
[39]  Sippel-Oakley, J.; Wang, H.-T.; Kang, B. S.; Wu, Z.; Ren, F.; Rinzler, A. G.; Pearton, S. J. Nanotechnology 2005, 16, 2218.
[40]  Kumar, M. K.; Ramaprabhu, S. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 11291.
[41]  Liu, S.; Shen, Q.; Cao, Y.; Gan, L.; Wang, Z.; Steigerwald, M. L.; Guo, X. Coord. Chem. Rev. 2010, 254, 1101.
[42]  Liu, S.; Li, J.; Shen, Q.; Cao, Y.; Guo, X.; Zhang, G.; Feng, C.; Zhang, J.; Liu, Z.; Steigerwald, M. L.; Xu, D.; Nuckolls, C. Angew. Chem., Int. Ed. 2009, 48, 4759.
[43]  Wang, Q.; Guo, X.; Cai, L.; Cao, Y.; Gan, L.; Liu, S.; Wang, Z.; Zhang, H.; Li, L. Chem. Sci. 2011, 2, 1860.
[44]  Shen, Q.; Cao, Y.; Liu, S.; Gan, L.; Li, J.; Wang, Z.; Hui, J.; Guo, X.; Xu, D.; Liu, Z. J. Phys. Chem. Lett. 2010, 1, 1269.
[45]  Zhang, D.; Gan, L.; Cao, Y.; Wang, Q.; Qi, L.; Guo, X. Adv. Mater. 2012, 24, 2715.
[46]  Liu, S.; Ye, J.; Cao, Y.; Shen, Q.; Liu, Z.; Qi, L.; Guo, X. Small 2009, 5, 2371. Cao, Y.; Dong, S.; Liu, S.; He, L.; Gan, L.; Yu, X.; Steigerwald, M. L.; Wu, X.; Liu, Z.; Guo, X. Angew. Chem., Int. Ed. 2012, 51, 12228.

Full-Text

Contact Us

service@oalib.com

QQ:3279437679

WhatsApp +8615387084133