工业纯Al的缝隙腐蚀再钝化电位
, PP. 165-168
Keywords: 工业纯Ａｌ,缝隙腐蚀再钝化电位,孔蚀电位
Abstract:
工业纯Ａｌ的缝隙腐蚀再钝化电位ＥＲ是缝隙结构的特征值，与缝隙腐蚀下限电位ＶＣＲＥＶ一致，比孔蚀电位负约１００ｍＶ，说明缝隙腐蚀更易发生．
| [1] | 1川茂男,久松敬弘．防食技术,1980:29(1):372梁成浩,火时中,谷金香,徐儒庸．太阳能学报,1996:7(3):3223ForoulisZ,A,ThubriarMJ．JElectrochemSOC,1969;116:9064川茂男,张恒,久松敬弘．防食技术,1983;32(3):1495梁成浩,原正,川茂男．防食技术,1988;37(11):6792
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