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ISSN: 2333-9721
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MoSi2高温氧化层的微观结构
, PP. 126-130
Keywords: MoSi2,微观结构,氧化层
Abstract:
采用SEM,TEM和XRD方法研究了MoSi2在1200-1600℃的氧化层微观结构.在1240℃以下,氧化层由SiO2和其它氧化物混合而成,致密度较差.1240-1520℃区间氧化层表面存在针状、扇状或羽状的低温石英,氧化层较薄.在1520℃以上,氧化层中含有块状、粒状或蜂巢状的方石英,氧化层致密而均匀,增强了材料的抗氧化性能.
References
[1] | Shaw L, Abbaschian R. J Mater Sci, 1995; 30: 5272
|
[2] | Bartlett R W, Mccamont J W, Gage P R. J Am GeramSoc, 1985; 48: 551
|
[3] | Wang D Z, Zuo T Y, Liu X V. Bull Mater, 1997: 8: 52(王德志,左铁镛.刘心宇,材料导报, 1997;8:52)
|
[4] | Kingery W D, Bowen H K, Uhlmann D R. Introduction to Oeramics. Second Edition, New York: Wiley, L976: 762
|
[5] | Zhou Z C. Micro structure Analysis in Inorganic Material. Hangzhou: Zhejiang University Press, 1993: 258(周志朝.无机材料显微结构分析.杭州:浙江大学出版社,1993:258)
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