铜胁迫和间作对玉米抗氧化酶活性及丙二醛含量的影响

为探讨红壤地玉米-豌豆间作种植模式对铜污染的响应机制，通过盆栽试验，研究了不同铜浓度（0、100、200、400、600mg·kg-1）对玉米单作和玉米间作豌豆条件下植株生物量、铜含量、玉米抗氧化酶活性超氧化物歧化酶（SOD）、过氧化氢酶（CAT）和过氧化物酶（POD）及丙二醛含量（MDA）的影响。结果表明：在高Cu2+浓度（600mg·kg-1）胁迫下，间作玉米地上部和地下部干重较单作分别提高了20%和36.6%，与单作相比，随着Cu2+浓度升高（100、200、400、600mg·kg-1），间作模式下玉米地上部铜含量分别降低了86.81%、44.57%、22.01%、11.11%，而地下部铜含量则分别提高了78.89%、24.79%、35.29%、13.31%，且差异均达到显着水平。在不同Cu2+浓度胁迫下，玉米叶和根中的SOD、POD、CAT活性和MDA含量均随着Cu2+浓度的增加而提高，仅Cu2+浓度达到600mg·kg-1时玉米体内的CAT活性有所下降。间作条件下玉米根的SOD活性较单作提高了48.07%~117.27%，间作玉米叶的SOD活性较单作提高了11.30%~46.90%.不同种植模式对Cu2+胁迫条件下的玉米POD活性均没有显着影响。在Cu2+（0~400mg·kg-1）胁迫下，间作玉米叶的CAT活性较单作均显着提高，分别提高了71.37%、140.40%、229.80%和161.75%，间作玉米根的CAT活性与单作无显着差异。间作玉米根的MDA含量较单作降低了26.13%~64.53%；在100、200mg·kg-1Cu2+胁迫下，间作玉米叶的MDA含量较单作降低了0.30%和26.24%，但在400、600mg·kg-1Cu2+胁迫下，间作玉米叶的MDA含量较单作提高了32.62%和93.51%.综上所述，在一定范围的Cu2+胁迫条件下，玉米根和叶中的抗氧化酶活性及MDA含量均有所提高来维持正常生长，间作模式在Cu2+胁迫下对玉米根和叶的抗氧化酶系统能起到一定的保护作用。