不同处理对丰水梨离体叶片不定芽再生的影响

采用多因素组合试验设计,研究了噻重氮苯基腺(TDZ)和吲哚丁酸(IBA)浓度组合、外植体类型、叶片放置方式、暗培养时间以及乙烯抑制剂AgNO3处理等因素对丰水梨离体叶片再生体系建立的影响。结果表明,NN69+TDZ2.0mg.L-1+IBA0.1mg.L-1处理的叶片再生频率和再生芽数分别达到86.7%和2.92,为丰水梨最佳培养基与植物生长物质组合。同一叶片的基部和中部比顶端更容易产生愈伤并再生形成不定芽。叶片远轴面向下接触培养基比近轴面向下利于叶片不定芽再生。AgNO3质量浓度在0.1-1.5mg.L-1范围内对离体叶片再生有显著促进作用,NN69+TDZ2.0mg.L-1+IBA0.2mg.L-1+AgNO31.0mg.L-1以及NN69+TDZ1.5mg.L-1+IBA0.3mg.L-1+AgNO30.1mg.L-1使丰水梨叶片再生频率均达到100%。