基质在热带兰栽培过程中的养分释放研究

采用PT法探究几种常见热带兰栽培基质有效氮、磷、钾释放及pH变化情况。结果表明整个试验阶段所有处理基质pH变化在524～688，适合大多数花卉生长，水苔受外界环境影响最大，有着较大的pH变化，不适宜热带兰长期栽培。各基质的养分释放并不是按一定规律来进行，混合基质养分释放量低于纯基质，混合基质可以避免纯基质养分释放量大的弊端。NH4+-N的释放遵循类似“U”型曲线变化，火山石与松树皮混合有利于NO3--N的释放。前60d内，A与B处理磷的释放变化较大，60d后磷含量表现为下降变化，直至趋于平缓，不过混合基质整体磷含量水平较低。A与B处理的钾释放量分别在第15和45天降至平缓释放水平，以后一直维持在该平缓水平上释放钾。？