用全反射X荧光技术分析釉药粉末

在微量痕量元素分析方面,全反射X荧光(TXRF)分析技术被认为是八十年代发展起来的最有竞争能力的分析手段,在原子谱仪中处于领先地位。我们从八十年代开始从事TXRF的研究,并于1993年自制出一台双激发源双光路全反射X荧光分析装置。几年来我们在许多领域里开展了应用研究。对水、油、头发、动物、古铜器、矿石粉、高纯材料、人工晶体等进行了分析实验。釉药是生产陶瓷的重要原料,需要好的配方并进行质量控制。但是,釉药粉末是多种原料的混合物,含有Sb、Zr、Ti、As等多种元素,难以消解,不易配成均匀的溶液,使许多分析方法难以奏效,用TXRF方法相当简单。