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分析化学 2000
杂多酸-聚(二烯丙基二甲基氯化铵)多层膜在4-氨基硫酚修饰金电极上的组装和电化学行为, PP. 1331-1335 Abstract: 通过电化学生长法在4-氨基硫酚自组装膜修饰金电极上制备了包含杂多酸(SiMo11VO405-和聚合物阳离子PDDA的多层膜修饰电极.用循环伏安法研究了该多层膜的电化学行为,结果表明Mo的第3个还原峰随多层膜层数的增加显著增长,而另两个还原峰增长缓慢.该修饰电极的峰电位随pH的增加而线性负移,表明有氢离子参与杂多酸的氧化还原反应.该修饰电极对BrO3-和HNO2的还原反应有良好的催化作用,催化电流随着层数的增加而增长,并且Mo的第三个还原峰电流与CBrO3-有良好的线性关系.
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