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ISSN: 2333-9721
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分析化学  2008 

表面活性剂对NBD-Cl衍生氨基酸的荧光增敏和芯片电泳分离的影响

, PP. 967-970

Keywords: 氨基酸,4-氯-7-硝基苯-2-氧-1,3-二唑,芯片毛细管电泳,激光诱导荧光,表面活性剂,荧光增敏

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Abstract:

研究多种表面活性剂以及溶剂对4-氯-7-硝基苯-2-氧-1,3-二唑(NBD-Cl)衍生氨基酸荧光性质的影响。考察并优化了NBD-Cl与氨基酸的衍生反应条件以及芯片毛细管电泳-激光诱导荧光的分离分析条件。结果表明:在临界胶束浓度以上,阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化胺(CTMAB)对精氨酸、谷氨酸、天冬氨酸的NBD-Cl衍生物,非离子表面活性剂十二烷基聚氧乙烯醚(Brij-35)对苯丙氨酸、精氨酸的NBD-Cl衍生物有荧光增敏效果。在含有5mmol/LBrij-35和20%乙腈添加剂的15mmol/L硼砂缓冲液(pH9.2)中,精氨酸、苯丙氨酸、丙氨酸、甘氨酸、谷氨酸及天冬氨酸等6种氨基酸的NBD-Cl衍生物可以在70s内实现分离,其中较难分离的丙氨酸、甘氨酸的NBD-Cl衍生物分离度为0.91;6种氨基酸衍生物的检出限为0.15~1.6μmol/L。

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