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电化学掺铜(Ⅱ)类普鲁士蓝膜修饰电极的制备及其对亚硝酸根的测定
, PP. 1040-1043
Keywords: 类普鲁士蓝膜 ,修饰电极 ,亚硝酸根 ,循环伏安法
Abstract:
研究在普鲁士蓝(PB)修饰膜中,利用电化学方法掺杂Cu2+制备的掺Cu2+类普鲁士蓝(Cu-PB)修饰膜。通过循环伏安和交流阻抗实验,考察了制备的Cu-PB修饰膜的电化学性质和对NO2-的响应特性,并与PB修饰膜进行了比较。研究表明,掺Cu2+后不仅改变了PB膜的内部结构,其电化学性能也发生了明显变化,PB修饰膜对NO2-无电催化作用,而Cu-PB修饰膜对亚硝酸根具有明显的电催化作用。在pH=5.85的PBS缓冲溶液中,NO2-的浓度在1.0×10-2～5.0×10-5mol/L范围内与还原峰电流呈良好的线性关系(r=0.9983);检出限(3S/N)为1.0μmol/L。本法用于实际样品的测定,回收率为97.5%～104%,结果令人满意。
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