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电化学  1998 

缓冲剂对镀镍过程作用机理的研究

, PP. 223-227

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缓冲剂对镀镍过程作用机理的研究①高灿柱鹿玉理刘汝涛陈方(山东大学环境工程系济南250100)李树本(中国科学院兰州化学物理研究所兰州730000)电镀镍是量大面广的镀种,它作为镀铬、贵金属、仿金、枪黑、黑镍的底层,用途非常广泛[1].在镀镍过程中,...

References

[1]  1邝 少林.性能优异的典型镀种添加剂的研究开发不容忽视.电镀与精饰,1995;17(4):32TilakBV,GendronAS,MosoiuMA.Boratebuferequilibriainnickelrefiningelectrolytes.J.Appl.electrochem.1997,7:4953JamesPHoare.Boricacidasacatalystinnickelplatingsolutions.J.Electrochem.Sco.,1987,134F(12):3102~31034JohnO’M.BockrisandshahedU.M.Khan.SurfaceelectrochemistryaMolecularlevelAproach.NewYorkandLondon:PlenumPres;1994:25MimaneT,MayannaSM,MunichandraiahN.Influenceofadditivesoftheelectrodepositionofnickelfromawatsbath:acyclicvoltammetricstudy.J.Appl.Electrochem.,1993,23:339~3456FleischmannMandSaraby—ReintjesA.Thesimultaneousdepositionofnickelandhydrogenonvitreouscarbon.ElectrochimicaActa.1984,29(1):69~757HoareJP,HowieBJ,andLabodaMA.Astudyofhigh-spedplatingofnickel.Plat.Surf.Finish,1986,73(Sept):62

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