|
OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用：99美元
|
|
|
|
(p-CH_3C_6H_4SO_3)_3Nd+DMF体系中电沉积钕-铁族合金膜
, PP. 14-17
Abstract:
本世纪３０年代Ａｕｄｒｅｉｔｈ等人基于分离稀土元素的目的，在某些有机溶剂电解液中用汞阴极电沉积了个别的稀土汞齐［１］．１９５４年Ｍｏｅｌｅｒ等在乙二胺中电沉积了Ｙ、Ｌａ和Ｎｄ（稀土含量只有５０％左右）［２］．随着电子和信息技术的发展，稀土合金功能薄膜...
| [1] | 1A udriethL，JukkolaE，MeintsR，etal．Preparationofamalgamsoflanthaniumandneodymium．J．AmericanChemSoc，1931，53：18052MelorT，ZimmermanP．Someobservationsontheelectrolysesofsolutionsofrare＿earthmetalsaltsinbasicsolvents．Science，1954，120：5393SatoY，IshidaH，KobayakawaK，etal．ElectrodepositionofSm＿Cofromformamide．ChemistryLeters，1990：14714UsuzakaN，YamaguchH，WatanabeT，PreparationandMagenticpropertiesofCo＿Gdamrphousaloyfilmsbytheelectroplating，MaterSciEng，1988，99：1055MatsudaYFujiT，YoshimotoN，etal．Dy＿Feelectrodepositioninorganicelectrolyte．JSurfFinishSocJapan，1991，42：1276YoshimotoN，ShinouraO，MiyauchiH，etal．Nd＿Feelectrodepositioninorganicelectrolyte．DenkiKagaku，1994，62（10）：9827HouseHetal．Prepatationofthetetrafluoroborates，J．Org．Chem，1971，36：2371
|
Full-Text
|
|
Contact Us
service@oalib.com QQ:3279437679 
WhatsApp +8615387084133
|
|
