NO在Au／Al2O3催化剂上还原反应的TPD-MS研究

？考察了沉积－沉淀法制备的Au／Al2O3催化剂在O2存在下催化C3H6还原NO的反应，并用程序升温脱附－质谱（TPD－MS）手段研究了吸附于催化剂上的NO或NO－O2的脱附性能．结果表明：在O2存在的条件下，对于C3H6还原NO的反应，1％Au／Al2O3的催化活性最高，可于375℃左右使NO生成N2，转化率达60％．这与催化剂对所吸附NO的脱附性能密切相关，N2O可能是C3H6还原NO反应过程中产生的比较稳定的中间体．