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兵工学报 2004
硅锗技术及其在无线射频领域的应用研究, PP. 78-81 Keywords: 半导体技术,砷化镓场效应管,异质结双极晶体管 Abstract: ?本文概述了硅锗(SiGe)技术发展趋势及优势,阐述了硅锗双极互补型金属氧化物半导体(SiGeBiCMOS)技术,硅锗异质结双极晶体管(SiGeHBT)器件在无线通信领域优良的性能,低廉的成本,可以说SiGe材料的出现为半导体材料和工艺增添了新的活力。硅互补型金属氧化物半导体(SiCMOS)工艺因其低廉的成本,较好的一致性是大规模数字集成电路制造的基础,而硅锗互补型金属氧化物半导体/硅锗双极互补型金属氧化物半导体(SiGeCMOS/BiCMOS)既有硅互补型金属氧化物半导体(CMOS)工艺的优点,又有良好的高频性能,特别是SiGeHBT的出现是SiGe器件的工作频率可直接应用到微波频段,而其成本和噪声性能是砷化镓(GaAs)材料无法比拟的。随着对SiGeHBT,硅锗场效应晶体管(SiGeFET)的研究,SiGe器件的高频性能,低噪声性能,功率和线性性能将得到展现,为进一步降佤收发信机的成本,提高其集成度打下了基础,展现了SiGe技术的无线领域广阔的应用前景。
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