三自由度精密定位工作台工作空间分析及优化
, PP. 624-630
Keywords: 机械学,纳米压印光刻技术,精密定位工作台,工作空间
Abstract:
？针对纳米压印光刻技术（NIL）过程中的纳米级空间定位要求，设计了一种采用柔性并联构针对纳米压印光刻技术（NIL）过程中的纳米级空间定位要求，设计了一种采用柔性并联构型和压电陶瓷驱动的三自由度精密定位工作台。基于伪刚体（PRB）模型理论将柔性铰链等效为理想转动副和线性扭簧，建立了精密定位平台的PRB模型，并以此分析了该类工作台的逆运动学特性；根据弹性铰链转角范围所限定的约束条件分析了定位工作台的工作空间。另外，为了达到以预定的全局条件数为约束条件的最大工作空间体积，对工作台结构参数进行优化，并通过数值仿真验证其有效性。
| [1] | ［3］ Choi B J，Sreenivasan S V，Johnson S，et al. Design of orientation st
|
| [2] | ［4］ Lee Jae-Jong，Choi Kee-Bong，Kim Gee-Hong，et al. The UV-nanoimpr
|
| [3] | ［6］ 严乐，卢秉恒，丁玉成，等. 冷压印光刻工艺精密定位工作台的研制［J］.
|
| [4] | ［7］ 董晓文，司卫华，顾文琪. 气囊气缸式紫外纳米压印系统的设计［J］. 半
|
| [5] | ［8］ Tian Y L, Shirinzadeh B，Zhang D W，et al. Development and dynamic m
|
| [6] | ［9］ Tian Y L, Shirinzadeh B，Zhang D W. A flexure-based mechanism and co
|
| [7] | ［10］ Tsai L W，Stamper R E. A parallel manipulator with only tran
|
| [8] | ［11］ Li Y M, Xu Q S. A novel design and analysis of a 2-DOF compliant pa
|
| [9] | ［12］ Stamper R E，Tsai L W，Walsh G C. Optimization of a three DOF transl
|
| [10] | ［1］ Guo L J. Recent progress in nanoimprint technology and its ap
|
| [11] | ［2］ Alkaisi M M，Jayatissa W，Konijn M. Multilevel nanoimprint lithograph
|
| [12] | ［5］ 范细秋，张鸿海，胡晓峰，等. 宽范围高对准精度纳米压印样机的研制［J
|
Full-Text
