桂林小花苣苔离体快速繁殖技术

？对抗结核植物桂林小花苣苔(Chiritopsisrepandavar.guilinensis)进行离体培养与快速繁殖技术研究。结果表明:桂林小花苣苔叶片外植体的最适初代诱导培养基为MS+0.5mg·L–16-BA+0.05mg·L–1IBA,pH8.0;最适继代增殖培养基为MS+0.1mg·L–16-BA+0.05mg·L–1IBA,pH6.0,繁殖系数7.0/35天;最适生根培养基为1/2MS+0.2mg·L–1NAA,pH6.0,生根率为93.6%。模拟桂林小花苣苔自然生境,在春季对生根试管苗进行大棚移栽,成活率达90%。根据上述快繁技术,理论上每株试管苗每年可繁殖桂林小花苣苔种苗46万株。